Intel Foundry ha raggiunto un traguardo significativo nella produzione di chip, completando l’assemblaggio del primo scanner litografico High Numerical Aperture (High NA) Extreme Ultraviolet (EUV) commerciale presso il proprio sito di ricerca e sviluppo di Hillsboro, Oregon. Questo è uno degli investimenti di Intel per mantenere la leadership nella produzione di chip dopo il nodo Intel 18A.
Intel è la prima azienda del settore ad adottare l’High NA EUV
Il tool TWINSCAN EXE:5000 High NA EUV, fornito da ASML, sta attraversando le fasi di calibrazione e presto sarà pronto per la produzione. Questo nuovo strumento migliora notevolmente la risoluzione e il ridimensionamento delle funzionalità per i processori di nuova generazione. Il tutto grazie a un innovativo design dell’ottica.
L’adozione dell’High NA EUV permetterà a Intel Foundry di stampare componenti fino a 1,7 volte più piccoli rispetto agli strumenti EUV esistenti, con una densità fino a 2,9 volte maggiore. Intel prevede di utilizzare sia lo 0,33NA EUV che lo 0,55NA EUV insieme ad altri processi litografici nello sviluppo e produzione di chip avanzati, a partire dai proof point su Intel 18A nel 2025 e continuando con la produzione di Intel 14A.
La collaborazione tra Intel e ASML ha portato allo sviluppo del TWINSCAN EXE:5000. L’azienda ha poi trasportato lo strumento in Oregon in più di 250 casse all’interno di 43 container, per un peso totale di oltre 150 tonnellate.
L’High NA EUV rappresenta un passaggio evolutivo oltre la litografia EUV, utilizzando una lunghezza d’onda della luce di 13,5 nm che non si trova in natura sulla Terra. Un potente laser colpisce una goccia di stagno riscaldata a quasi 220.000 gradi Celsius, poi si riflette su una maschera contenente il modello del circuito desiderato e attraversa un sistema ottico costruito con specchi di altissima precisione.
Questo tipo di tecnologia permette a Intel di costruire chip sempre più avanzati. Trovate ulteriori informazioni qui.
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